Apabila pasaran semikonduktor berkembang, piawaian untuk kesucian dan ketepatan menjadi lebih ketat. Salah satu faktor penentu dalam kualiti pembuatan semikonduktor adalah gas yang digunakan dalam proses tersebut. Gas -gas ini memainkan banyak peranan dalam proses pembuatan, termasuk:
Kawalan proses ketepatan
Pencegahan pencemaran
Peningkatan harta metalurgi
Untuk melaksanakan peranan ini dengan berkesan, sistem bekalan dan pengedaran gas mestilah cekap. Reka bentuk sistem pengendalian gas yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor mesti disokong oleh komponen yang mantap dan perhimpunan yang disesuaikan untuk memastikan pengeluaran semikonduktor yang boleh dipercayai dan berkualiti tinggi.
Gas yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor
Proses pembuatan semikonduktor memerlukan penggunaan gas yang berlainan pada tahap yang berlainan dalam proses.
Walaupun gas biasa seperti nitrogen, hidrogen, argon dan helium boleh digunakan dalam bentuk tulen mereka, proses tertentu mungkin memerlukan campuran khusus. Silanes atau siloxanes, hexafluorides, halida dan hidrokarbon adalah beberapa gas khusus yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor. Kebanyakan gas ini boleh berbahaya atau sangat reaktif, mencipta cabaran dalam pemilihan dan reka bentuk komponen untuk sistem gas.
Berikut adalah beberapa contoh:
\ Hydrogen dan helium dengan mudah boleh bocor dari sistem paip dan pemasangan kerana saiz dan berat atom kecil mereka.
\ Silanes sangat mudah terbakar dan secara spontan boleh dibakar (autoignite) di udara.
\ Nitrogen difluoride yang digunakan dalam tahap pemendapan, etsa dan pembersihan ruang menjadi gas rumah hijau yang kuat apabila bocor ke alam sekitar.
\ Hidrogen fluorida (gas etsa) sangat mengakiskan dengan paip logam.
\ Trimethylgallium dan ammonia boleh menjadi sukar untuk mengendalikan - turun naik kecil dalam keperluan suhu dan tekanan mereka boleh mempengaruhi proses pemendapan.
Mengawal keadaan proses untuk meminimumkan kesan negatif gas ini mestilah menjadi keutamaan semasa reka bentuk sistem. Sama pentingnya menggunakan komponen berkualiti tinggi seperti injap diafragma AFK semasa proses membina.
Menangani cabaran reka bentuk sistem
Gas gred semikonduktor adalah dalam kebanyakan kes kesucian yang tinggi dan menyediakan keadaan lengai atau meningkatkan reaksi pada tahap yang berlainan dalam proses pembuatan, seperti gas etch dan pemendapan. Kebocoran atau pencemaran gas tersebut boleh memberi kesan negatif. Oleh itu, adalah penting untuk komponen sistem yang digunakan untuk tahan hermetik dan tahan kakisan serta mempunyai kemasan permukaan licin (penggilap elektrolitik) untuk memastikan bahawa tidak ada kemungkinan pencemaran dan tahap kebersihan yang sangat tinggi dapat dikekalkan.
Di samping itu, beberapa gas ini boleh dipanaskan atau disejukkan untuk mencapai keadaan proses yang dikehendaki. Komponen yang dilatih dengan baik memastikan kawalan suhu, yang penting untuk prestasi produk akhir yang cekap.
Dari salur masuk sumber ke titik penggunaan, pelbagai komponen AFK menyokong kesucian ultra tinggi, suhu, tekanan dan kawalan aliran yang diperlukan dalam bilik bersih semikonduktor dan ruang vakum.
Sistem yang direka dengan komponen berkualiti dalam fabs semikonduktor
Peranan komponen kualiti dan pengoptimuman reka bentuk adalah penting untuk kawalan yang tepat dan pembuatan semikonduktor yang selamat. Komponen yang digunakan perlu teguh dan bebas bocor untuk memadankan keadaan proses yang berbeza-beza yang diperlukan pada tahap yang berlainan dalam pembuatan injap, kelengkapan, pengawal selia, dan pengedap yang berkualiti tinggi.
Kesucian ultra tinggi
Meterai bebas kebocoran
Penebat terkawal suhu
Kawalan tekanan
Rintangan kakisan
Rawatan penggilap elektrolitik
Masa Post: Okt-09-2023